发明名称 ニオブ窒化物およびその製造方法、ニオブ窒化物含有膜およびその製造方法、並びに、半導体、半導体デバイス、光触媒、水素生成デバイスおよびエネルギーシステム
摘要 本発明は、組成式Nb3N5で表される組成を有し、構成元素Nbの価数が実質的に+5価であるニオブ窒化物である。本発明のニオブ窒化物の製造方法は、有機ニオブ化合物と窒素化合物ガスとを反応させて、前記有機ニオブ化合物を窒化する窒化工程を含む。
申请公布号 JPWO2013084447(A1) 申请公布日期 2015.04.27
申请号 JP20130535165 申请日期 2012.11.28
申请人 パナソニック株式会社 发明人 鈴木 孝浩;野村 幸生;黒羽 智宏;宮田 伸弘;田村 聡;徳弘 憲一;羽藤 一仁
分类号 B01J27/24;B01J35/02;C01B3/04;C01B21/06;C23C16/34;H01M8/06 主分类号 B01J27/24
代理机构 代理人
主权项
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