发明名称 システム的欠陥フィルターによるレチクル欠陥検査
摘要 フォトリソグラフィレチクルを検査するための方法および装置が開示される。欠陥データのストリームがレチクル検査システムから受け取られ、欠陥データは、レチクルの複数の異なる部分に関して検出された複数の欠陥を識別する。レチクルが検査を合格するかどうかを判定するために欠陥データを再検討する前、かつ欠陥データのストリームが続けて受け取られるにつれ、欠陥のいくつかは最も新しく受け取られた他の1つ以上の欠陥と自動的にグループ分けされ、実質的に一致する欠陥のグループを形成する。レチクルが検査を合格するかどうかを判定するために欠陥データを再検討する前、かつレチクルに関する欠陥データのすべてが受け取られた後、所定のしきい値より高い数を有する、欠陥のグループのうちの1つ以上が欠陥データから自動的にフィルタリングされ、フィルタリングされた欠陥データを形成する。フィルタリングされた欠陥データは、次に、再検討ステーションに提供され、レチクルが合格するかどうかが判定され得る。
申请公布号 JP2015512051(A) 申请公布日期 2015.04.23
申请号 JP20140561142 申请日期 2013.03.08
申请人 ケーエルエー−テンカー コーポレイション 发明人 リー ビーン;マー ウエイミン;ブレッチャー ジョセフ
分类号 G01N21/956;G01N21/88;G03F1/84;H01L21/027 主分类号 G01N21/956
代理机构 代理人
主权项
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