| 摘要 |
<p>Für einen Elektronenstrahlschreiber zur Belichtung von Elementarfiguren (7) einer in Elementarfiguren (7) zerlegten Figur (11) auf einer mit einem elektronenstrahlempfindlichen Resist (1) beschichteten Oberfläche wird vorgeschlagen, dass die Öffnungen (4, 5) der oberen und der unteren Blendenscheiben (2, 3) so ausgebildet sind, dass durch den diese Öffnungen (4, 5) passierenden Elektronenstrahl (6) mindestens rechtwinklige Trapeze (rwT) und rechtwinklige ungleichschenklige Dreiecke (rwD) als Elementarfiguren (7) generierbar sind.</p> |
