| 摘要 |
<p>【課題】基板上に実質的に均一な堆積を確実にする堆積チャンバ用ディフューザを提供する。【解決手段】基板のエッジ領域のみならず、基板のコーナー領域における不均一性を補償するために、ガス通路のオリフィス６０５Ａ、６０５Ｂ、６０５Ｃは、必要に応じて異なる大きさに作り、これによってより多くのガスは、ある戦略的に配置されたガス通路を通って流れることが許可され、これによって基板上への堆積を増加させることができる。オリフィスの大きさは、実質的に均一な堆積をもたらすオリフィス直径の勾配又は直径の混合を形成するように変化させることができる。【選択図】図６</p> |
