发明名称 一种新型阻变随机存储器及其制造方法
摘要 本发明提供一种基于石墨烯氧化物的阻变随机存储器的制造方法。该阻变随机存储器包括栅极、栅绝缘层、源极、漏极、有源区、位于有源区和源极及漏极之间的石墨烯层以及存储单元。存储单元包括上电极、下电极以及上下电极之间的阻变层,其中阻变层为石墨烯氧化物。其中石墨烯氧化物层为石墨烯层经过氧化工艺形成。该氧化工艺可为远程等离子体氧化工艺。石墨烯层的使用,提高了器件的电稳定性以及可靠性。同时采用该方法,降低了工艺难度,提高了生产效率。
申请公布号 CN104538548A 申请公布日期 2015.04.22
申请号 CN201410687628.3 申请日期 2015.01.23
申请人 焦作大学 发明人 侯涛;汤震;唐慧刚;郭艳红;孔德武
分类号 H01L45/00(2006.01)I 主分类号 H01L45/00(2006.01)I
代理机构 郑州红元帅专利代理事务所(普通合伙) 41117 代理人 季发军
主权项 一种阻变随机存储器的制造方法,包括:提供具有绝缘表面的衬底;在衬底上形成栅电极;形成覆盖栅电极的栅氧化层;在栅氧化层上形成图案化的源极和漏极;形成石墨烯图案,其覆盖源极和漏极;形成掩膜图案,其覆盖源极、部分漏极以及源极和漏极之间的部分,且暴露出漏极上的部分石墨烯图案;对暴露的位于漏极上的石墨烯层进行氧化工艺,在漏极的暴露部分形成石墨烯氧化物层;去除掩膜图案;形成有源层,且覆盖源极和部分漏极上的石墨烯图案,而暴露部分漏极上的石墨烯氧化物图案;在衬底上形成覆盖源极、漏极、有源层以及石墨烯氧化物层的层间绝缘层;在层间绝缘层上形成通孔,其暴露石墨烯氧化物层;在通孔中、暴露石墨烯氧化物层表面形成上电极;填充剩余的通孔。
地址 454003 河南省焦作市人民大道东段3066号