| 发明名称 |
Method for electrochemically producing at least one porous region of a micro- and/or nanoelectronic structure |
| 摘要 |
<p>Procédé de réalisation d'au moins une zone poreuse (ZP) d'une structure microélectronique dans au moins une partie d'une couche active (6) conductrice, la couche active (6) formant une face avant d'un empilement, l'empilement comportant une face arrière (2) en matériau conducteur et une couche isolante (4) interposée entre la couche active (6) et la face arrière (2), ledit procédé comportant les étapes :
a) réalisation d'au moins un plot de contact (14) entre la face arrière (2) et la couche active (6) à travers la couche isolante (2),
b) mise en place de l'empilement dans un bain électrochimique,
c) application d'un courant électrique entre la face arrière (2) et la couche active (6) à travers le plot de contact (14) induisant une porosification d'une zone (ZP) de la couche active (6) au voisinage du plot de contact (14),
d) formation de la structure microélectronique.</p> |
| 申请公布号 |
EP2862836(A1) |
申请公布日期 |
2015.04.22 |
| 申请号 |
EP20140189171 |
申请日期 |
2014.10.16 |
| 申请人 |
COMMISSARIAT À L'ÉNERGIE ATOMIQUE ET AUX ÉNERGIESALTERNATIVES |
发明人 |
OLLIER, ERIC;GAILLARD, FRÉDÉRIC-XAVIER;MARCOUX, CARINE |
| 分类号 |
B81C1/00 |
主分类号 |
B81C1/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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