发明名称 晶体硅太阳能电池镀膜方法
摘要 本发明涉及一种晶体硅太阳能电池镀膜方法,其包括以下步骤:首先,将硅片放入石英舟内,进行进舟。之后,通入氮气升温至380-450℃,维持5-15分钟。然后,通入氨气并开启射频进行预清洗,维持5-8分钟。接着,通入氨气与硅烷,开启射频进行等离子溅射沉积12-14分钟。最后,出舟冷却。有此,能够提升太阳能电池的光电转换效率。同时,去掉预清洗步骤后,能够针对现有的加工步骤缩短生产时间,提升生产产能。由于缩短了不必要的步骤,节省氨气使用量,降低生产成本。再者,本发明所采用的方法,整体步骤简便,且无需增加额外工序步骤和物料,节省了生产成本且有利于推广。
申请公布号 CN103022256B 申请公布日期 2015.04.22
申请号 CN201210576190.2 申请日期 2012.12.27
申请人 中利腾晖光伏科技有限公司 发明人 胡党平;陆俊宇;吴飞翔;魏青竹;保罗
分类号 H01L31/18(2006.01)I;C23C14/40(2006.01)I 主分类号 H01L31/18(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 晶体硅太阳能电池镀膜方法,其特征在于包括以下步骤:步骤①,将硅片放入石英舟内,进行进舟,步骤②,通入氮气升温至380‑450℃,维持5‑15分钟,步骤③,通入氨气并开启射频进行预清洗,维持5‑8分钟,步骤④,通入氨气与硅烷,开启射频进行等离子溅射沉积12‑14分钟,步骤⑤,出舟,步骤⑥,冷却;步骤①所述的进舟时间为1‑3分钟,步骤②中,通入氮气升温至410℃,维持10分钟,步骤③所述的预清洗中,通入流量为5升/分钟的氨气开射频预清洗5分钟,的步骤④中通入流量为5‑9升/分钟氨气和600‑800毫升/分钟硅烷,开射频等离子溅射沉积13.3分,步骤⑥所述的冷却时间为6‑9分钟。
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