| 发明名称 |
Holder device for holding wafers |
| 摘要 |
<p>Die vorliegende Erfindung betrifft eine Aufnahmeeinrichtung zur Aufnahme und Halterung von Wafern mit folgenden Merkmalen:
- eine Halterungsfläche (1o),
- Haltemitteln zur Halterung des Wafers an der Halterungsfläche (1o) und
- Kompensationsmittel (3, 4, 5, 6) zur aktiven, insbesondere lokal steuerbaren, zumindest teilweisen Kompensation von lokalen und/oder globalen Verzerrungen des Wafers. Weiterhin betrifft die vorliegende Erfindung eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Ausrichten eines ersten Wafers mit einem zweiten Wafer unter Verwendung einer vorgenannten Aufnahmeeinrichtung.</p> |
| 申请公布号 |
EP2863421(A1) |
申请公布日期 |
2015.04.22 |
| 申请号 |
EP20150150980 |
申请日期 |
2010.12.20 |
| 申请人 |
EV GROUP E. THALLNER GMBH |
发明人 |
WIMPLINGER, MARKUS;WAGENLEITNER, THOMAS;FILBERT, ALEXANDER |
| 分类号 |
H01L21/67;H01L21/66;H01L21/68;H01L21/683 |
主分类号 |
H01L21/67 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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