发明名称 用激光进行材料处理的具有扫描仪光学系统的装置
摘要 本发明涉及一种用激光(1)进行材料处理的、特别是激光焊接的、装配有扫描仪光学系统(前或后目标扫描)的装置。该装置包括随扫描仪光学系统(2a、2b)共同运动的图像传感器(18),该传感器从光学上整合到扫描仪光学系统(2a、2b)的射线线路的部分区域上,该部分区域始于工件(7)上的处理位置(16);所述装置包括至少一个随所述扫描仪光学系统(2a、2b)共同运动的投影器(10),该投影器用于将测量光线(11)以测量结构的形式投影在待处理工件(7)上。图像传感器(18)对于由投影器(10)放射出的测量光线(11)的波长范围是敏感的并且设置在偏转单元(4a、4b)远离射线线路的一侧;偏转单元在由投影器(10)放射出的光的波长范围上是可穿透的,而在由处理激光(1)发射出的光的波长范围上是可反射的。用该装置可以在批量生产中制成具有高分辨率的不复杂的几何模件,例如,精细的角焊缝和卷边焊缝。
申请公布号 CN102307698B 申请公布日期 2015.04.22
申请号 CN201080007258.4 申请日期 2010.01.21
申请人 斯甘索尼克咪有限公司 发明人 普拉温·谢维
分类号 B23K26/082(2014.01)I;B23K26/70(2014.01)I;B23K26/142(2014.01)I 主分类号 B23K26/082(2014.01)I
代理机构 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人 张天舒
主权项 一种用处理激光(1)进行材料处理的装置,其具有通过引导机而相对于待处理工件(7)可运动的扫描仪光学系统(2a、2b),该扫描仪光学系统根据前目标扫描或后目标扫描原理工作,而且该扫描仪光学系统的射线线路由一个或多个主动(4b)和/或被动(4a)偏转单元来引导;所述装置包括:‑随所述扫描仪光学系统(2a、2b)共同运动的投影器(10),该投影器用于将测量光线(11)以测量结构的形式投影在待处理工件(7)上;以及,‑随所述扫描仪光学系统(2a、2b)共同运动的图像传感器(18),所述图像传感器(18)对于由投影器(10)放射出的测量光线(11)的波长范围是敏感的;‑所述投影器设置在所述扫描仪光学系统(2a、2b)的射线线路之外,并且由所述投影器(10)放射出的测量光线(11)由至少一条线(12)构成,所述线相对于所述工件(7)上待生成焊缝的纵向(13)延伸,并且所述线具有到处理激光射线(6)的射中位置(8)的、由所述投影器(10)在焊缝纵向(13)上预设的进给量,‑其中,所述扫描仪光学系统(2b)具有部分透射的偏转单元(4a)和主动偏转单元(4b),所述部分透射的偏转单元在测量光(11)的波长范围上是可穿透的,而在激光处理射线(6)的波长范围上是可反射的,所述主动偏转单元在测量光(11)的波长范围上和在激光处理射线(6)的波长范围上是可反射的,‑其中,由处理激光(1)射出的激光处理射线(6)的射线线路由部分透射的偏转单元(4a)引导主动偏转单元(4b)并且激光处理射线(6)由主动偏转单元(4b)引至待处理的工件(7)的预定处理位置(16),‑其中,用于从扫描仪光学系统(2a、2b)的射线线路进行光学分离的图像传感器(18)设置在部分透射的偏转单元(4a)远离激光处理射线的射线线路的一侧,并且‑其中,投影器(10)这样设置在扫描仪光学系统的射线线路之外,即,由投影器放射出的照射在工件(7)上的测量光(11)在扫描仪光学系统(2b)的射线线路之外,并且从工件(7)反射的接收射线(19)由主动偏转单元(4b)引导至部分透射的偏转单元(4a)并穿过部分透射的偏转单元到达光学图像传感器(18)。
地址 德国柏林