发明名称 |
用于有机EL元件的密封膜,有机EL元件以及有机EL显示器 |
摘要 |
本发明的目的是提供一种用于有机EL元件的密封膜,该密封膜由于不存在针孔而具有极佳的耐湿性。本发明的密封膜是用于有机EL元件的密封膜,该密封膜具有至少由三层构成的层状结构,其中氮化硅膜和氧氮化硅膜交替层叠,该密封膜的特征是从有机EL元件侧数起的奇数层是膜厚度(T1)等于或大于200纳米的氮化硅膜,从有机EL元件侧数起的偶数层是膜厚度(T2)等于或大于20纳米且等于或小于50纳米的氧氮化硅膜。 |
申请公布号 |
CN102077686B |
申请公布日期 |
2015.04.22 |
申请号 |
CN200980125910.X |
申请日期 |
2009.06.29 |
申请人 |
夏普株式会社 |
发明人 |
安达和哉 |
分类号 |
H01L27/32(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/32(2006.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 31100 |
代理人 |
刘多益;王颖 |
主权项 |
一种用于有机EL元件的密封膜,所述密封膜具有至少由三层构成的层状结构,其中氮化硅膜和氧氮化硅膜交替层叠,所述密封膜的特征在于:从有机EL元件侧数起的奇数层是膜厚度T1等于或大于200纳米的氮化硅膜,从有机EL元件侧数起的偶数层是膜厚度T2等于或大于20纳米且等于或小于50纳米的氧氮化硅膜,最上层是氮化硅膜,所述密封膜通过等离子体CVD法形成,以及在形成密封膜的过程中,将有机EL元件的温度控制在70℃或更低。 |
地址 |
日本大阪 |