发明名称 一种樱桃密集矮化种植方法
摘要 本发明提供了一种樱桃密集矮化种植方法,涉及果树的栽培领域,本发明包括以下步骤:选择砧木品种、砧木扦插、苗圃地管理、嫁接、定植、整形修剪、花果期管理。通过嫁接吉塞拉或考特砧木,修剪得低干、矮冠的樱桃树,樱桃树成活率高;垄台覆盖草或覆膜,减少土壤和养分的流失,干旱时可减少果园土壤水分的蒸发,雨季时防止积水内涝;愈合剂的使用,使环剥伤口加速愈合,且控制了营养物质和水分的流失;樱桃树所结樱桃产量高且稳定,色泽鲜艳、晶莹美丽,甜度高,大大提高市场竞争力,带来经济效益。
申请公布号 CN104521579A 申请公布日期 2015.04.22
申请号 CN201410854700.7 申请日期 2014.12.30
申请人 大连岭前农业专业合作社 发明人 王继国
分类号 A01G1/06(2006.01)I 主分类号 A01G1/06(2006.01)I
代理机构 大连智高专利事务所(特殊普通合伙) 21235 代理人 胡景波
主权项 一种樱桃密集矮化种植方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)选择砧木品种:选择无病虫害的吉塞拉或考特砧木嫁接品种;(2)砧木扦插:第一年5~9月份,将砧木嫩枝剪成20cm的小段,插入扦插床中,扦插床细沙湿度为80~90%,大棚内温度为20~30℃;(3)苗圃地管理:每亩地使用3000~4000公斤玉米秸秆和柴草,挖10~15cm深,行距为20~25cm的沟,然后将砧木苗移栽其内,每隔1~2个月施加一次氮肥,每次用量6~8公斤/亩,每次施肥时疏松土壤;(4)嫁接:第二年3~4月,采用芽接法嫁接砧木苗;(5)定植:第三年3~4月,选择向阳地,偏酸性土壤,在垄台上按照2.5~3米行距开栽植沟,株距20~25厘米,坑深20厘米,将嫁接的苗木用ABT7号生根粉15~30ppm进行蘸根,将蘸根后的苗木种于栽植沟,相邻两棵苗木的间距为2.5~3米,浇定根水,垄台上覆盖一层稻草秸秆、树叶、草或薄膜;定植后每隔一个月施加一次氮肥,9月份施加一次有机肥、氮磷钾复合肥;(6)整形修剪:第一年,定干:定干高度为60~80厘米,并在剪口处涂抹25~35%石蜡乳液,同时加强肥水;第二年,修剪、拉枝:春季拉枝,第一层主枝基角拉开至80度,梢角65~70度,辅养枝开角80~90度,同时刻芽、短截;第三年,环剥:在侧枝靠近主干的分叉部位,用刻刀环枝条一周 刻两条深入韧皮层的圈,宽度约5毫米,将树皮剥去,环剥韧皮部用愈合剂涂抹伤口一圈,再用薄膜包紧并用绳子捆绑两端即可;(7)花果期管理:包括肥水管理、授粉、喷施植物激素。
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