发明名称 一种显示面板及其制造方法和显示器件
摘要 本发明实施例提供一种显示面板及其制造方法和显示器件,涉及显示器制造领域,能够避免半透半反的液晶显示器制造过程中的摩擦工艺不良,进而提高显示器的画面质量。该显示面板包括:对盒成型的彩膜基板和阵列基板,其中所述彩膜基板和所述阵列基板之间含有液晶,所述阵列基板包括基板、像素单元层、取向层,其中所述像素单元层包括:由栅线和数据线围成的像素单元及开关单元和覆盖所述像素单元的钝化层,所述取向层包括:覆盖所述像素单元层的第一取向层;形成在所述第一取向层上对应反射区位置的反射层;形成于所述反射层上方的第二取向层。本发明实施例应用于显示器制造。
申请公布号 CN104536208A 申请公布日期 2015.04.22
申请号 CN201510007287.5 申请日期 2012.05.25
申请人 京东方科技集团股份有限公司 发明人 李明超
分类号 G02F1/1337(2006.01)I 主分类号 G02F1/1337(2006.01)I
代理机构 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人 申健
主权项 一种显示面板的制造方法,在基板上形成像素单元层,所述像素单元层包括:由栅线和数据线围成的像素单元及开关单元和覆盖所述像素单元的钝化层,其特征在于,在所述像素单元层上形成第一光敏高分子层;对所述第一光敏高分子层进行第一方向的摩擦取向;对所述第一光敏高分子层进行干燥和光照固化形成第一取向层;在所述第一取向层上对应反射区的位置形成一层反射层;在所述第一取向层和所述反射层上形成第二光敏高分子层;对所述第二光敏高分子层进行第二方向的摩擦取向;对所述第二光敏高分子层进行干燥处理并通过掩膜板对所述反射层上方的第二光敏高分子层进行光照固化处理形成第二取向层,得到阵列基板;将所述阵列基板与制作成型的彩膜基板对盒并注入液晶。
地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号