| 发明名称 | 一种齿形结构涂层坩埚 | ||
| 摘要 | 本实用新型公开了一种齿形结构涂层坩埚。它包括坩埚本体、内壁、涂层；内壁以连续分布的齿形结构分布于坩埚本体内部，在齿形结构的内壁上涂覆氮化硅涂层。坩埚内壁采用齿形结构，是为了减少坩埚与硅熔体的接触，进而减小杂质的引入以及硅熔体在坩埚侧壁的成核。通过坩埚内壁涂层的方式来实现熔炼和脱模，不仅解决了黏滞问题，而且可以降低多晶硅中的氧、炭等杂质浓度。 | ||
| 申请公布号 | CN204281890U | 申请公布日期 | 2015.04.22 |
| 申请号 | CN201420465934.8 | 申请日期 | 2014.08.19 |
| 申请人 | 衢州学院 | 发明人 | 周兆忠 |
| 分类号 | C30B28/06(2006.01)I;C30B29/06(2006.01)I | 主分类号 | C30B28/06(2006.01)I |
| 代理机构 | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人 | 张法高 |
| 主权项 | 一种齿形结构涂层坩埚，其特征在于包括坩埚本体（1）、内壁（2）、涂层（3）；内壁（2）以连续分布的齿形结构分布于坩埚本体（1）内部，齿形结构相对于坩埚本体朝上外露，在齿形结构的内壁（2）上涂覆氮化硅涂层（3）。 | ||
| 地址 | 324000 浙江省衢州市九华北大道78号 | ||