| 摘要 |
Composiciones de limpieza de escurrimiento que incluyen concentraciones bastante elevadas de un agente oxidante hipoclorito y un hidróxido (por ejemplo, desde 4 hasta 12% y desde 2,5 hasta 10%, respectivamente). La composición incluye además un surfactante (por ejemplo, una combinación de surfactantes), agua y exhibe un pH muy elevado (por ejemplo, al menos 13). La composición es monofásica, incluso en concentraciones elevadas de óxidos e hidróxidos. El surfactante puede incluir una combinación de surfactantes no cargados (por ejemplo, un surfactante anfotérico o un surfactante no iónico) y un surfactante cargado (por ejemplo, un surfactante aniónico, catiónico, o un surfactante que se transforma en tal en condiciones de pH muy altas de la composición). La relación entre el surfactante cargado y el surfactante no cargado puede ser de al menos 1:10, por ejemplo, desde 1:10 hasta aproximadamente 1:50. |
