发明名称 氮气注入设备
摘要 本发明涉及用于LCD制造设备的半导体装置的氮气注入装置,其可以轻易制造,因此可降低生产成本,并且使一氮气注入方向对应反应副产品的流向,因此可有效地注入氮气而不会干扰反应副产品的流动。该氮气注入装置包含一对具有凸缘的凸缘管,一沿着耦接在一起的凸缘管的其中之一的内壁耦接的环形注入喷嘴,以供应氮气至这些凸缘管内;以及一连接至该注入喷嘴以供应氮气的氮气供应线。该注入喷嘴的内部具有一孔,用以使一圆周方向供应的氮气流动,以及多个与该孔连通的注入孔,用以将氮气供应至这些凸缘管内。这些注入孔形成于自这些凸缘管的内表面突出的位置,以将氮气注入反应副产品的流动方向。
申请公布号 CN102576654B 申请公布日期 2015.04.22
申请号 CN201080035368.1 申请日期 2010.08.03
申请人 李承龙 发明人 李承龙
分类号 H01L21/02(2006.01)I 主分类号 H01L21/02(2006.01)I
代理机构 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人 余刚;吴孟秋
主权项 一种氮气注入装置,包含:一对凸缘管,每一凸缘管具有一凸缘,用以连接一使副产品气体可经由其运送的管;一以一环形沿着所述凸缘管的壁耦接于所述一对凸缘管之间的注入喷嘴,用以供应氮气至所述凸缘管内;以及一连接至所述注入喷嘴以供应氮气的氮气供应线,其中,所述注入喷嘴具有一沿着圆周方向限定的孔,使氮气能够移动,所述注入喷嘴包括多个与所述孔连通的注入孔,用以使供应的氮气可被注入至所述凸缘管内,以及所述注入孔形成于自所述凸缘管的一内表面突出的位置,以将氮气注入与反应副产品的流动方向相同的方向,所述注入喷嘴包括一沿着圆周方向形成于其一外侧上并耦接至所述凸缘管的壁的耦接部分;以及一沿着圆周方向形成于所述耦接部分的一内侧以便自所述凸缘管的一内周围表面突出的突起,所述注入孔形成于所述突起内与一副产品气体流出方向相同的方向,所述注入喷嘴被设定为通过一第一分割部分与一第二分割部分耦接,而所述注入喷嘴沿着圆周方向分割,所述第一分割部分与所述第二分割部分分别位于副产品气体流入与流出方向,所述第一分割部分具有一沿着圆周方向限定所述孔的一部分或全部的第一流动孔,以及所述注入孔形成于所述第二分割部分内,用以对应地与所述第一流动孔连通,所述突起的未形成有所述注入孔的相对内周围表面具有一逐渐增加的内直径,用以降低对所述副产品气体的阻力,藉此减少所述突起的所述内周围表面和所述凸缘管的内周围表面之间的厚度的差异。
地址 韩国京畿道