发明名称 电路板
摘要 本公开涉及一种电路板,所述电路板具有第一聚酰亚胺表护层、第一成像金属层、第一电绝缘层、第二成像金属层、聚酰亚胺粘合层、第三成像金属层、第二电绝缘层、第四成像金属层和第二聚酰亚胺表护层。所述第一聚酰亚胺表护层、所述聚酰亚胺粘合层和所述第二聚酰亚胺表护层衍生自100摩尔%3,3’,4,4’-联苯四甲酸二酐、20至90摩尔%2,2’-双(三氟甲基)联苯胺和10至80摩尔%4,4’-二氨基二苯醚。
申请公布号 CN104541583A 申请公布日期 2015.04.22
申请号 CN201380042680.7 申请日期 2013.06.21
申请人 E.I.内穆尔杜邦公司 发明人 G·S·考克斯;C·D·西蒙尼;C·R·海格;R·A·韦塞尔
分类号 H05K1/00(2006.01)I;H05K3/06(2006.01)I 主分类号 H05K1/00(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 江磊
主权项 电路板,依次包括:a.第一聚酰亚胺表护层,所述第一聚酰亚胺表护层包含衍生自100摩尔%3,3’,4,4’‑联苯四甲酸二酐、20至90摩尔%2,2’‑双(三氟甲基)联苯胺和10至80摩尔%4,4’‑二氨基二苯醚的聚酰亚胺。b.第一成像金属层c.第一电绝缘层,所述第一电绝缘层具有第一侧面和第二侧面;所述第一电绝缘层的第一侧面靠近所述第一成像金属层d.第二成像金属层;所述第一电绝缘层的第二侧面靠近所述第二成像金属层;e.聚酰亚胺粘合层,所述聚酰亚胺粘合层包含衍生自100摩尔%3,3’,4,4’‑联苯四甲酸二酐、20至90摩尔%2,2’‑双(三氟甲基)联苯胺和10至80摩尔%4,4’‑二氨基二苯醚的聚酰亚胺;f.第三成像金属层;g.第二电绝缘层,所述第二电绝缘层具有第一侧面和第二侧面;所述第二电绝缘层的第一侧面靠近第三成像金属层h.第四成像金属层;所述第二电绝缘层的第二侧面靠近所述第四成像金属层;i.第二聚酰亚胺表护层,所述第二聚酰亚胺表护层包含衍生自100摩尔%3,3’,4,4’‑联苯四甲酸二酐、20至90摩尔%2,2’‑双(三氟甲基)联苯胺和10至80摩尔%4,4’‑二氨基二苯醚的聚酰亚胺;其中,所述聚酰亚胺粘合层与所述第二成像金属层和所述第一电绝缘层的第二侧面的暴露区直接接触;并且与所述第三成像金属层和所述第二电绝缘层的第一侧面的暴露区直接接触;其中当在300至380℃的层合温度和150psi(10.55Kg/cm)至400psi(28.13Kg/cm)的压力下,将i)所述第一成像金属层、第一电绝缘层和第二成像金属层;ii)所述聚酰亚胺粘合层;以及iii)所述第三成像金属层、第二电绝缘层和第四成像金属层层压时,所述聚酰亚胺粘合层具有如根据IPC‑TM‑650‑2.4.9d所测量的0.7至2N/mm的剥离强度;其中所述第一聚酰亚胺表护层与所述第一成像金属层和所述第一电绝缘层的第一侧面的暴露区直接接触,并且其中所述第二聚酰亚胺表护层与所述第四成像金属层和所述第二电绝缘层的第二侧面的暴露区直接接触;并且其中所述第一电绝缘层和所述第二电绝缘层为能够耐受320至380℃的层合温度的任何电绝缘材料。
地址 美国特拉华州