发明名称 |
一种杂化磨料及制备方法和在超精密抛光中的用途 |
摘要 |
本发明涉及一种有机/无机杂化磨料,特制一种杂化磨料及制备方法和在超精密抛光中的用途。本发明首先用无皂乳液聚合法制备的PMMA微球,做为PMMA/<i><sub>M</sub></i>SiO<sub>2</sub>杂化磨料的内核,再以乙烯基三甲氧基硅烷(VTMS)为硅源、氨水为催化剂、十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)为介孔模板剂,利用VTMS在乙醇/水混合溶液中的水解,在PMMA内核表面包覆由CTAB胶束与SiO<sub>2</sub>组成的复合物,进一步去除模板剂CTAB,即可得到在PMMA微球表面包覆<i><sub>M</sub></i>SiO<sub>2</sub>,从而得到球形PMMA/<i><sub>M</sub></i>SiO<sub>2</sub>核/壳结构复合微球。所提供复合磨料能够同时改善、强化微观接触区域内的化学作用和机械作用,最终实现高效无损伤抛光。 |
申请公布号 |
CN104531067A |
申请公布日期 |
2015.04.22 |
申请号 |
CN201410783509.8 |
申请日期 |
2014.12.18 |
申请人 |
常州大学 |
发明人 |
陈杨;汪亚运;秦佳伟;张泽芳 |
分类号 |
C09K3/14(2006.01)I;C09G1/02(2006.01)I |
主分类号 |
C09K3/14(2006.01)I |
代理机构 |
南京经纬专利商标代理有限公司 32200 |
代理人 |
楼高潮 |
主权项 |
一种杂化磨料,其特征在于:所述杂化磨料为单分散球形,具有核壳包覆结构,内核为聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)微球,壳层为放射状介孔氧化硅(Mesoporous Silica, <i><sub>M</sub></i>SiO<sub>2</sub>)。 |
地址 |
213164 江苏省常州市武进区滆湖路1号 |