发明名称 |
离子注入装置 |
摘要 |
离子注入装置具备真空腔(11)、在外周部的一部分缠绕膜(2)的电极辊(13)、对电极辊施加电压的电压施加单元(21)、以及向真空腔内导入气体的气体导入单元(31),通过电压施加单元对电极辊施加电压,并且通过气体导入单元导入气体而形成等离子体,在膜的表面进行离子注入处理,其中,与电极辊的缠绕膜的面相向地设置有电极部件(42)。 |
申请公布号 |
CN104540979A |
申请公布日期 |
2015.04.22 |
申请号 |
CN201380042608.4 |
申请日期 |
2013.09.12 |
申请人 |
琳得科株式会社 |
发明人 |
永绳智史;后藤大辅;剑持卓 |
分类号 |
C23C14/48(2006.01)I;H05H1/46(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/48(2006.01)I |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 |
代理人 |
许海兰 |
主权项 |
一种离子注入装置,具备:真空腔;在外周部的一部分缠绕膜的电极辊;对该电极辊施加电压的电压施加单元;以及向所述真空腔内导入气体的气体导入单元,通过所述电压施加单元对所述电极辊施加电压,并且通过所述气体导入单元导入气体而形成等离子体,在所述膜的表面进行离子注入处理,其特征在于:与所述电极辊的缠绕所述膜的面相向地设置了电极部件。 |
地址 |
日本东京都 |