发明名称 可形成亲水自清洁减反射膜涂料的制备方法
摘要 本发明提供一种可形成亲水自清洁减反射膜涂料的制备方法,主要解决了现有方法制备的涂料不具备亲水自清洁功能和减反射增透功能,同时,还需要在高温下进行固化的问题。该可形成亲水自清洁减反射膜涂料的制备方法包括以下步骤:1]取氨水、醇和去离子水混合后加热;2]再取有机硅源和醇混合得到混合液;3]将经步骤2制备的反应溶液一次性加入步骤1制备的混合液中反应等处理后即得到成品。该方法所形成的膜层均匀,表面纳米结构规则,粒子表面羟基密度大,因此透光率大幅提升,单面镀膜时透光率提升达到3%以上。同时具有良好的亲水自清洁性。
申请公布号 CN103044977B 申请公布日期 2015.04.22
申请号 CN201210411603.1 申请日期 2012.10.24
申请人 西安中科光机投资控股有限公司 发明人 郭昭龙;赵卫;赵海新
分类号 C09D1/00(2006.01)I;C09D5/00(2006.01)I;C03C17/23(2006.01)I;C01B33/141(2006.01)I 主分类号 C09D1/00(2006.01)I
代理机构 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 代理人 杨引雪
主权项 一种可形成亲水自清洁减反射膜涂料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:1]取氨水、醇和去离子水混合后加热至30‑90℃,氨水、醇、去离子水的体积比为1:10‑60:0.5‑5;2]取有机硅源和醇混合得到混合液,有机硅源和醇的体积比例为1:1‑30;所述的机硅源指的是正硅酸甲酯、正硅酸乙酯、正硅酸丙酯中的一种或者两种及两种以上以任意比例混合;3]将经步骤2制备的反应溶液一次性加入步骤1制备的混合液中反应1‑15min,步骤1制备的溶液与步骤2制备的反应溶液体积比为2:1‑2,4]向步骤3制备的溶液中添加去离子水反应1‑15min,添加量为总溶液体积的5‑30%;然后再添加氨水反应,添加量为总溶液体积的0.5‑8%;5]步骤4反应完成后,再反应1‑6小时;6]步骤5反应完成后,去除氨气即得到成品。
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