发明名称 |
时间差分掩模版检查 |
摘要 |
公开的是用于时间差分掩模版检查的系统和方法。污染物例如通过确定所述掩模版的至少一部分的第一识别标识与所述掩模版的所述部分的在所述第一识别标识之后产生的第二识别标识之间的差别而被确定。 |
申请公布号 |
CN102472961B |
申请公布日期 |
2015.04.22 |
申请号 |
CN201080029069.7 |
申请日期 |
2010.07.16 |
申请人 |
ASML控股股份有限公司 |
发明人 |
E·凯蒂;R·哈内德;Y·施玛埃夫;R·萨拉尔德森;R·雅克布 |
分类号 |
G03F1/84(2012.01)I |
主分类号 |
G03F1/84(2012.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
吴敬莲 |
主权项 |
一种用于检测掩模版上的污染物的方法,所述方法包括以下步骤:响应于在清洗之前由掩模版所形成的晶片图像中所检测到的误差,比较在清洗掩模版之前产生的掩模版的一部分的第一识别标识与在清洗掩模版之后所产生的清洗后的识别标识,所述比较步骤被执行以确定污染物是否出现在清洗后的掩模板上;在没有污染物的情况下,用清洗后的识别标识改写所述第一识别标识;确定所述掩模版的一部分的第一识别标识与所述掩模版的所述部分的在所述第一识别标识之后产生的第二识别标识之间的差别。 |
地址 |
荷兰维德霍温 |