发明名称 中性色的双银复合结构低辐射镀膜玻璃及工艺
摘要 本发明提供一种中性色的双银复合结构低辐射镀膜玻璃及镀制工艺,该玻自玻璃基板向外的结构层依次为:玻璃/电介质层(1)/复合吸收层(1)/铜铝合金层(1)/银层(1)/保护层(1)/复合电介质层(1)/银层(2)/保护层(2)/电介质层(2);采用真空磁控溅射镀膜工艺,优点是,在原有复合结构中新增加一层铜合金层,能够使其透过颜色呈中性色。并且,铜合金和银的特性使得该玻璃对远红外线的放射率大大提高,即达到了低辐射。
申请公布号 CN102898041B 申请公布日期 2015.04.22
申请号 CN201210430335.8 申请日期 2012.11.01
申请人 上海耀皮玻璃集团股份有限公司;上海耀皮工程玻璃有限公司 发明人 陈波;吴斌;孙大海;葛剑君;董华明
分类号 C03C17/36(2006.01)I;B32B17/06(2006.01)I;B32B15/04(2006.01)I;B32B18/00(2006.01)I;B32B9/04(2006.01)I;B32B33/00(2006.01)I 主分类号 C03C17/36(2006.01)I
代理机构 上海东亚专利商标代理有限公司 31208 代理人 罗习群;刘莹
主权项 一种中性色的双银复合结构低辐射镀膜玻璃,其特征在于:在玻璃基板镀制包含有复合吸收层在内的多层膜层的结构,各膜层结构,自玻璃基板向外依次为:电介质层1、复合吸收层1、铜铝合金层、银层1、保护层1、复合电介质层1、银层2、保护层2、电介质层2;其中:电介质层1为SiNx,膜层厚度为   25nm~50nm;复合吸收层1为在NiCr镀层上再镀陶瓷ZnOx层,总膜层厚度为12nm~14nm;铜铝合金层1为CuAlNx层,膜层厚度为2~10nm;银层1、2为Ag,膜层厚度为    5nm~15nm;保护层1、2为NiCr,膜层厚度为  0nm~14nm;复合电介质层1为在ZnO镀层上再依次镀SnO<sub>2</sub>层、ZnO层结构,总膜层厚度为 50nm~110nm;电介质层2为Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub>,膜层厚度为 35nm~50nm。
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