发明名称 | 柔性抛光磨粒群动态力链观测装置 | ||
摘要 | 柔性抛光磨粒群动态力链观测装置,包括图像处理装置和颗粒控制装置,图像处理装置包括光源发生器、光源采集器、数据分析仪,光源发生器位于观测区最低端,光源发生器发射的光源穿过下偏振光器指向位于由下偏振光器和上偏振光器组成的观测区之间的颗粒控制装置;颗粒控制装置的上表面覆盖透明挡板;光源采集器位于上偏振光器的正上方,光源采集器的光源采集视野覆盖通过上偏振光器透射出的光源;数据分析仪的数据输入端与光源采集器的数据输出端相连、数据分析仪的数据信号输出端与数据分析仪的显示屏连接。本实用新型的有益效果在于:光弹颗粒的外部施加参数可实时被检测,通过滑块进行光弹颗粒运动状态的调整,实现对柔性抛光加工实验的模拟。 | ||
申请公布号 | CN204286652U | 申请公布日期 | 2015.04.22 |
申请号 | CN201420631443.6 | 申请日期 | 2014.10.28 |
申请人 | 浙江工业大学 | 发明人 | 曾晰;计时鸣;潘烨;金明生;张利 |
分类号 | G01L1/24(2006.01)I | 主分类号 | G01L1/24(2006.01)I |
代理机构 | 杭州天正专利事务所有限公司 33201 | 代理人 | 王兵;黄美娟 |
主权项 | 柔性抛光磨粒群动态力链观测装置,其特征在于:包括图像处理装置和颗粒控制装置,所述的图像处理装置包括光源发生器、光源采集器、数据分析仪,所述的光源发生器位于观测区最低端,并且光源发生器发射的光源穿过下偏振光器指向位于由下偏振光器和上偏振光器组成的观测区之间的颗粒控制装置;所述的颗粒控制装置的上表面覆盖透明挡板;所述的光源采集器位于上偏振光器的正上方,并且光源采集器的光源采集视野覆盖通过上偏振光器透射出的光源;所述的数据分析仪的数据输入端与所述的光源采集器的数据输出端相连、所述的数据分析仪的数据信号输出端与数据分析仪的显示屏连接;所述的颗粒控制装置包括透明的上滑块、透明的下滑块、用于容纳光弹颗粒的容纳腔,所述的下滑块配有应力传感器和位移传感器,所述的应力传感器的数据输出端和位移传感器的数据输出端分别与所述的数据分析仪相应的数据端连接。 | ||
地址 | 310014 浙江省杭州市下城区潮王路18号 |