发明名称 光辐射场均匀性测量装置及测量方法
摘要 本发明提供一种光辐射场均匀性测量装置,所述装置包括有成像系统、旋转系统以及计算机控制系统,其中:所述计算机控制系统对所述旋转系统进行控制,使得所述旋转系统可进行任意角度的旋转;所述成像系统安装于所述旋转系统上,用于对待测光辐射场进行成像,并将获得的数据传输到所述计算机控制系统中;本发明通过旋转相机的方式,使得各个像素的光谱响应函数可以随时修正,从而保证所述光辐射场均匀性测量数据的准确性,本发明还提供一种光辐射场均匀性测量方法。
申请公布号 CN103278242B 申请公布日期 2015.04.22
申请号 CN201310167315.0 申请日期 2013.05.08
申请人 中国计量科学研究院 发明人 冯国进
分类号 G01J3/28(2006.01)I 主分类号 G01J3/28(2006.01)I
代理机构 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人 王莹
主权项 一种光辐射场均匀性测量方法,其特征在于,包括以下步骤:S1、将待测光辐射场中心与成像系统拍摄的所述待测光辐射场的中心对准;S2、将旋转系统分别旋转两个角度,并确定旋转后所述成像系统的各像素的位置;S3、根据测量的所述各像素位置对应的信号,计算所述各像素位置对应的光辐射场量,并确定所述待测光辐射场的均匀性。
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