发明名称 化学机械研磨垫及制造和使用该化学机械研磨垫之方法
摘要
申请公布号 TWI481469 申请公布日期 2015.04.21
申请号 TW098134452 申请日期 2009.10.12
申请人 罗门哈斯电子材料CMP控股公司 发明人 库普 玛莉 乔;史军 丹瑞
分类号 B24B37/20 主分类号 B24B37/20
代理机构 代理人 洪武雄 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼;陈昭诚 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼
主权项 一种用于研磨基板之化学机械研磨垫,该基板系选自磁性基板、光学基板及半导体基板,该化学机械研磨垫包括:具有适合用于研磨该基板之研磨表面及独特一体式身分特征之研磨层;其中,该独特一体式身分特征系无研磨活性,其中,该独特一体式身分特征包括至少两个视觉上不同的标记,其中,该至少两个视觉上不同的标记之至少其中之一者为无色彩系标记,其中,该至少两个视觉上不同的标记中之其中之一者为色彩系标记,其中,该至少两个视觉上不同的标记系经选择成用以将该化学机械研磨垫独特地识别为选自复数种类型之化学机械研磨垫之其中一种类型的化学机械研磨垫,以及其中,该至少两个视觉上不同的特性特征系可在该化学机械研磨垫之整个可使用寿命期间在该研磨表面上观察到;以及,其中,该研磨层具有适合用于研磨基板之研磨表面。
地址 美国
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