| 主权项 |
一种光罩图案之设计方法，包括：提供一曝光机，配置有一光罩，该光罩包括一光学邻近修正(optical proximity correction,OPC)图案，该光学邻近修正(OPC)图案包括一第一透光区与一第一遮光区，其中该第一透光区包围该第一遮光区，其中该第一遮光区为十字形，该第一透光区具有至少一截角，且该光学邻近修正(OPC)图案更包括至少一第二遮光区，设置于该第一透光区之该截角；将一基板置于该曝光机中；以及对该基板进行曝光，以于该基板上形成一成像图案，其中该成像图案之面积小于该光学邻近修正(OPC)图案之面积。
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