| 发明名称 |
高分子化合物及包含此高分子化合物之光阻材料及图案形成方法、该高分子化合物之制造方法 |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
TWI481626 |
申请公布日期 |
2015.04.21 |
| 申请号 |
TW102106603 |
申请日期 |
2013.02.25 |
| 申请人 |
信越化学工业股份有限公司 |
发明人 |
大桥正树;小林知洋 |
| 分类号 |
C08F20/38;G03F7/004;H01L21/027 |
主分类号 |
C08F20/38 |
| 代理机构 |
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代理人 |
周良谋 新竹市东大路1段118号10楼;周良吉 新竹市东大路1段118号10楼 |
| 主权项 |
一种含磺酸阴离子之高分子化合物，具有含有烷基鋶阳离子部及阴离子部的重复单元，该烷基鋶阳离子部系1-(4-羟基-1-萘基)四氢噻吩鎓或1-(4-烷氧基-1-萘基)四氢噻吩鎓；该阴离子部系选自于以下结构构成之群组中之一者：
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| 地址 |
日本 |
