发明名称 薄膜剥离方法、光学薄膜之制法、薄膜剥离机构及光学薄膜制造装置
摘要
申请公布号 TWI481507 申请公布日期 2015.04.21
申请号 TW098132882 申请日期 2009.09.29
申请人 琳得科股份有限公司 发明人 稻男洋一;卫藤广行;神田敏满;杉崎俊夫;早川基行
分类号 B32B38/10;B32B27/00;G02B5/00 主分类号 B32B38/10
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项 一种薄膜剥离方法,其系由在黏着剂层一方之侧积层轻剥离薄膜,并在其另一方之侧积层重剥离薄膜所构成之无基材双面黏着片连续剥离轻剥离薄膜之薄膜剥离方法;其系顺着与无基材双面黏着片接触之1个以上的输送转向辊,在将轻剥离薄膜之输送方向及/或剥离后之无基材双面黏着片之输送方向改变下,由无基材双面黏着片与输送转向辊接触的部分剥离轻剥离薄膜,且轻剥离薄膜的剥离面至剥离后之无基材双面黏着片的剥离面之角度(θ1)为28度以上;顺着与该无基材双面黏着片之重剥离薄膜侧接触之输送转向辊,将剥离后之无基材双面黏着片之输送方向改变为与重剥离薄膜侧接触之输送转向辊侧,且由剥离前之无基材双面黏着片之输送方向之延长方向至剥离后之无基材双面黏着片之剥离面所形成角度(θ2)为θ1±10度以内。
地址 日本