用于湿蚀刻二氧化矽之组合物

主权项

一种用于湿蚀刻二氧化矽之组合物，其系包含：10至30重量%之氟化氢(HF)；30至40重量%之氟化氢铵(NH4HF2)；0.001至1重量%之作为阴离子界面活性剂之聚氧乙烯C1-C20烷基硫酸铵(ammonium polyoxyethylene C1-C20alkyl sulfate)以及水，且，以该组合物之总重计，氟化氢含量及氟化氢铵含量之总和为50至70重量%。