| 发明名称 | 拉曼散射增强基板 | ||
| 摘要 | |||
| 申请公布号 | TWI481858 | 申请公布日期 | 2015.04.21 |
| 申请号 | TW102119879 | 申请日期 | 2013.06.05 |
| 申请人 | 财团法人工业技术研究院 | 发明人 | 林鼎晸;郑琮达;黄晓凤;陈品诚 |
| 分类号 | G01N21/65 | 主分类号 | G01N21/65 |
| 代理机构 | 代理人 | 洪澄文 台北市南港区三重路19之6号2楼;颜锦顺 台北市南港区三重路19之6号2楼 | |
| 主权项 | 一种拉曼散射增强基板(SERS substrate)，包括：一拉曼散射增强活化基板(SERS-active substrate)；以及一图案化亲水区域与一图案化疏水区域设置于该拉曼散射增强活化基板之上，其中该图案化亲水区域与该图案化疏水区域之水接触角差异为29~90度。 | ||
| 地址 | 新竹县竹东镇中兴路4段195号 | ||