| 主权项 |
一种决定光微影程序之参数的方法，该方法包含：接收布局；藉由测量印刷于晶圆上的等焦图案之关键尺寸来决定抗蚀剂关键尺寸值，其中该关键尺寸对聚焦变化实质上不敏感；藉由下列决定光学关键尺寸值：藉由以多个光学模型而褶积运算该布局来决定在该等焦图案附近的多个空中影像强度值，其中该多个光学模型模型化在不同聚焦条件下之该光微影程序的光学系统；决定在该等焦图案附近之第一位置，在此处该些空中影像强度值对聚焦变化实质上不敏感；以及藉由决定该第一位置及参考位置之间的距离来决定该光学关键尺寸值；藉由决定该抗蚀剂关键尺寸值及该光学关键尺寸值间之差来决定该光微影程序之抗蚀剂偏差；以及储存该抗蚀剂偏差。
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