发明名称 |
メタ物質のコイル基盤人工原子、それを含むメタ物質及び素子 |
摘要 |
メタ物質のコイル基盤人工原子及びそれを含んだメタ物質及び素子を提供し、該メタ物質のコイル基盤人工原子は、第1空間をコイリングする第1コイリング部、及び第2空間をコイリングし、第1コイリング部と連結された第2コイリング部を含む。 |
申请公布号 |
JP2015511794(A) |
申请公布日期 |
2015.04.20 |
申请号 |
JP20150500364 |
申请日期 |
2013.03.15 |
申请人 |
サムスン エレクトロニクス カンパニー リミテッド;シティー ユニバーシティ オブ ホンコン |
发明人 |
ハン,スン−フン;リ,ジェンセン ツァン−ハン;リャン,ジシャン |
分类号 |
H01P3/00 |
主分类号 |
H01P3/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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