非极性三族氮化物膜、使用其制造之装置及生长其之方法;NONPOLAR III-NITRIDE FILM, DEVICE FABRICATED USING THE SAME AND METHOD FOR GROWING THE SAME
摘要
本发明提供一种生长在一基板的一斜切角上之非极性三族氮化物膜，以用于抑制表面波动。该膜的表面形态经改良为具有一个朝向a轴方向的斜切角，其包括朝向a轴方向之0.15°或更大的斜切角及朝向a轴方向小于30°的斜切角。 A nonpolar III-nitride film grown on a miscut angle of a substrate, in order to suppress the surface undulations, is provided. The surface morphology of the film is improved with a miscut angle towards ana-axis direction comprising a 0.15° or greater miscut angle towards thea-axis direction and a less than 30°
申请公布号
TW201515068
申请公布日期
2015.04.16
申请号
TW103138109
申请日期
2008.06.16
申请人
美国加利福尼亚大学董事会 THE REGENTS OF THE UNIVERSITY OF CALIFORNIA
发明人
平井朝子 HIRAI, ASAKO;贾中元 JIA, ZHONGYUAN;齐藤真 SAITO, MAKOTO;山田永 YAMADA, HISASHI;矶宪司 ISO, KENJI;丹巴尔斯 史蒂芬Ｐ DENBAARS, STEVEN P.;中村 秀治 NAKAMURA, SHUJI;史贝克 詹姆士Ｓ SPECK, JAMES S.
