于微影制程中使图案合格;QUALIFYING PATTERNS FOR MICROLOTHOGRAPHY

摘要

本发明揭示用于使一光微影主光罩合格之方法及设备。一主光罩检测工具用以自该主光罩之各图案区域获取不同成像组态之至少两个影像。基于来自该主光罩之各图案区域之至少两个影像重新建构一主光罩图案。针对各重新建构之主光罩图案，在此重新建构之主光罩图案上模型化具有两种或更多种不同程序条件之一微影程序以产生两个或更多个对应模型化测试晶圆图案。各自分析两个或更多个模型化测试晶圆图案以识别该等主光罩图案之热点图案，该等热点图案易受改变由此等热点图案形成之晶圆图案之该等不同程序条件之影响。