| 摘要 |
Die Erfindung betrifft eine Optische Anordnung, insbesondere eine Plasma-Lichtquelle (1´) oder eine EUV-Lithographieanlage, mit einem Gehäuse (2), das einen Gehäuseinnenraum (3) umschließt, einer Vakuumerzeugungseinheit zur Erzeugung eines Vakuums in dem Gehäuse (2), mindestens einer Oberfläche (13), die in dem Gehäuseinnenraum (3) angeordnet ist, und einer Reinigungseinrichtung (15) zum Entfernen von an der Oberfläche (13) abgelagerten kontaminierenden Stoffen (14). Die Reinigungseinrichtung (15) ist ausgebildet, die abgelagerten kontaminierenden Stoffe (14) durch den Ausstoß von CO2 in Form von CO2-Pellets (17) zu entfernen. |
