发明名称 X射线产生用靶及X射线产生装置
摘要 本发明所揭示之X射线产生用靶于实施形态之一例中具有基板1。又,本发明所揭示之X射线产生用靶于实施形态之一例中具有设置于基板1之上表面之第1X射线靶部10-1。又,本发明所揭示之X射线产生用靶于实施形态之一例中,具有与第1X射线靶部10-1之外缘空开间隔而设置于基板1之上表面中之包围第1X射线靶部10-1之位置的第2X射线靶部10-2。
申请公布号 TW201515045 申请公布日期 2015.04.16
申请号 TW103125581 申请日期 2014.07.25
申请人 东京威力科创股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED 发明人 山西良树 YAMANISHI, YOSHIKI;门泽克治 KADOSAWA, KATSUJI
分类号 H01J35/08(2006.01) 主分类号 H01J35/08(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本 JP;
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