发明名称 敏辐射线性树脂组成物、光阻图型之形成方法、聚合物
摘要 本发明系关于一种敏辐射线性树脂组成物,其系含有具有酸解离性基之聚合物(A)、藉由辐射线照射产生酸之酸产生剂(B)及具有以下述通式(x)表示之官能基及氟原子之聚合物(C),且前述聚合物(C)为氟原子含量高于前述聚合物(A)之聚合物,;[通式(x)中,R 1 为硷解离性基,A为氧原子(但,直接键结于芳香环、羰基及磺醯氧基者除外)、亚胺基、-CO-O-*或-SO2-O-*(「*」表示键结于R 1 之键结键)]。
申请公布号 TW201514623 申请公布日期 2015.04.16
申请号 TW103145796 申请日期 2010.09.17
申请人 JSR股份有限公司 JSR CORPORATION 发明人 浅野裕介 ASANO, YUUSUKE;佐藤光央 SATOU, MITSUO;中岛浩光 NAKASHIMA, HIROMITSU;笠原一树 KASAHARA, KAZUKI;大泉芳史 OOIZUMI, YOSHIFUMI;堀雅史 HORI, MASAFUMI;川上峰规 KAWAKAMI, TAKANORI;松田恭彦 MATSUDA, YASUHIKO;中原一雄 NAKAHARA, KAZUO
分类号 G03F7/004(2006.01);C08F20/22(2006.01);C08F20/26(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 G03F7/004(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本 JP