发明名称 Elektrisch isolierende thermische Schnittstellenstruktur auf Diskontinuität einer Verkapselungsstruktur
摘要 Verfahren zum Herstellen eines elektronischen Halbleitergehäuses (400), wobei bei dem Verfahren ein elektronischer Chip (100) mit einem Träger (102) gekoppelt wird, der elektronische Chip (100) mittels einer Verkapselungsstruktur (200), die eine Diskontinuität (300) hat, zumindest teilweise verkapselt und der Träger (102) teilweise verkapselt wird, und zumindest ein Teil der Diskontinuität (300) und ein daran angeschlossenes Volumen, das an einen freiliegenden Oberflächenabschnitt des Trägers (102) angrenzt, mit einer elektrisch isolierenden thermischen Schnittstellenstruktur (402) bedeckt wird, die zumindest einen Teil des Trägers (102) gegenüber einer Umgebung elektrisch entkoppelt.
申请公布号 DE102013220880(A1) 申请公布日期 2015.04.16
申请号 DE201310220880 申请日期 2013.10.15
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 FÜRGUT, EDWARD;MENGEL, MANFRED
分类号 H01L21/58;H01L21/56;H01L23/28;H01L23/433 主分类号 H01L21/58
代理机构 代理人
主权项
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