铜及钼含有膜的蚀刻液组合物;ETCHING COMPOSITION FOR COPPER AND MOLIBDENUM CONTAINING FILM

摘要

本发明涉及一种蚀刻铜及钼含有膜时，控制钼或钼合金膜的侧蚀，实现稳定的蚀刻工程，并可改善蚀刻锥角、蚀刻偏差和蚀刻直线度等蚀刻特性的蚀刻液组合物。所述蚀刻液组合物中，相对于总重量，过氧化氢的含量为10至30重量%，蚀刻抑制剂的含量为0.1至5重量%，螯合剂的含量为0.1至5重量%，蚀刻添加剂的含量为0.1至5重量%，氟化物的含量为0.01至2重量%，侧蚀抑制剂的含量为0.01至2重量%，及使总重量达到100重量%的水。