制得基板之方法;PROCESS FOR OBTAINING A SUBSTRATE

摘要

在本发明之制得包括折射率调变图案的透明基板之方法中，透明基板系利用聚焦在该基板上呈至少一道雷射线形式之雷射辐射来照射，其中该基板至少部分吸收该雷射辐射，在该基板与聚焦在该基板上之该雷射线之间在相对于该雷射线之纵向(Y)为横向的方向(X)上产生相对移动，及在该相对移动的过程中，该雷射线之功率随着该相对移动之速度及随着该相对移动的方向(X)上之图案尺寸而依时调变。