| 摘要 |
<p>溶媒中に分散されたシリコンリッチポリシランシロキサン樹脂を含むフォトリソグラフィーにおける使用のための反射防止コーティング（ＡＲＣ）配合物、並びに該ＡＲＣ配合物でコーティングされた表面を有する基材、及び該ＡＲＣ配合物を前記表面に適用してＡＲＣ層を形成する方法が提供される。該ポリシランシロキサン樹脂は、（Ｒ’）２ＳｉＯ２の構造単位によって定義される第１の構成成分と、（Ｒ’’）ＳｉＯ３の構造単位によって定義される第２の構成成分と、（Ｒ’’’）ｑ＋２Ｓｉ２Ｏ４−ｑの構造単位によって定義される第３の構成成分とを含む。これらのポリシランシロキサン樹脂において、Ｒ’、Ｒ’’、及びＲ’’’は独立して、炭化水素基又は水素（Ｈ）基であるように選択され、また下付文字ｑは１又は２である。別の方法としては、Ｒ’、Ｒ’’、及びＲ’’’は独立して、メチル（Ｍｅ）基又は水素（Ｈ）基として選択される。典型的には、（ｘ＋ｙ＋ｚ）＝１、ｘ＜ｙ、かつｘ＜ｚであるように、第１の構成成分はモル比ｘで存在し、第２の構成成分はモル比ｙで存在し、また第３の構成成分はモル比ｚで存在する。該ポリシランシロキサン樹脂は、約４２重量％以上のシリコン含有率を有する。</p> |
