成膜装置及成膜方法;FILM DEPOSITION APPARATUS AND FILM DEPOSITION METHOD

摘要

提供一种能够抑制装置尺寸以及制造成本并且能够进行长时间之成膜的成膜装置以及成膜方法。构成一种成膜装置(1)，其系具备有真空腔(2)、和从真空腔(2)之底部而供给蒸镀材料(13)之具有支持杆(8)之炉床(7)、和使蒸镀材料(13)昇华并产生电浆之枪(3)、以及对于枪(3)供给电力之电源(6)。在炉床(7)之内部，系设置有磁石(9)，将炉床(7)和支持杆(8)作电性连接，将炉床(7)以及支持杆(8)一同与电源(6)作连接。又，亦可在真空腔(2)和枪(3)之间，配置第1线圈(4)，并在真空腔(2)外之底部处，配置第2线圈(5)。