| 摘要 |
Die Erfindung betrifft ein Verfahren (800) zum Herstellen einer Kontaktstruktur (104) einer Fotovoltaikzelle (100), wobei das Verfahren (800) einen Schritt (802) des Bereitstellens, einen Schritt (804 des Dotierens und einen Schritt (806) des Kontaktierens aufweist. Im Schritt (802) des Bereitstellens wird ein Wafer (102) für die Fotovoltaikzelle (100) bereitgestellt. Im Schritt (804) des Dotierens wird ein Flächenanteil zumindest einer Seite des Wafers (102) mit einem Dotiermaterial dotiert, um einen dotierten Bereich (106) zu erhalten, wobei der dotierte Bereich (106) als dotierte Bahnen (106) ausgebildet wird und die Bahnen (106) durch Zwischenräume (110) getrennt sind. Im Schritt (806) des Kontaktierens wird der dotierte Bereich (106) kontaktiert, um die Kontaktstruktur (104) herzustellen, wobei ein Leitermaterial (108) so auf die Bahnen (106) aufgebracht wird, dass die Bahnen (106) beidseitig das Leitermaterial (108) überragen. |
