| 摘要 |
<p>플라즈마 처리 장치는, 그 내부에서 플라즈마에 의한 처리를 행하는 처리 용기와, 처리 용기 밖에 배치되어 고주파를 발생시키는 고주파 발생기를 포함하고, 고주파 발생기에 의해 발생시킨 고주파를 이용하여 처리 용기 내에 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생 기구를 구비한다. 고주파 발생기는, 고주파를 발진하는 고주파 발진기와, 고주파 발진기에 전력을 공급하는 전원부와, 고주파 발진기에 의해 발진된 고주파를 부하측이 되는 처리 용기측에 전파하는 도파로와, 고주파에 의해 도파로 내에 형성되는 전압 정재파의 전압 정재파비를 전원부로부터 공급되는 전력에 따라 가변으로 하는 전압 정재파비 가변 기구(61)를 포함한다.</p> |
