处理装置以及器件制造方法

摘要

本发明提供将形成于掩模图案(M)的图案投影曝光于基板(P)的处理装置(EX)。具备：将掩模图案保持为弯曲的状态的掩模保持部件(DM)；支承基板的基板支承部件(DP)；对掩模图案的一部分进行照明的照明系统(IU)；利用照明系统形成与在掩模图案上形成的照明区域(IR)对应的中间像(IM)、并且使中间像的切面(IMa)和掩模图案上的照明区域的切面(IRa)满足向甫鲁条件而成为共轭关系的中间像形成光学系统(PL1)；以及向支承于基板支承部件的基板上的投影区域(PR)投影中间像的投影光学系统(PL2)。

主权项

一种处理装置，其将形成于掩模图案的图案投影曝光于基板，其特征在于，具备：掩模保持部件，其将上述掩模图案保持为弯曲的状态；基板支承部件，其支承上述基板；照明系统，其对上述掩模图案的一部分进行照明；中间像形成光学系统，其利用上述照明系统形成与在上述掩模图案上形成的照明区域对应的中间像，并且使上述中间像的切面和上述掩模图案上的照明区域的切面满足向甫鲁条件而成为共轭关系；以及投影光学系统，其向支承于上述基板支承部件的基板上的投影区域投影上述中间像。