发明名称 传送装置
摘要 本发明提供了一种传送装置,包括:第一传送部件,其沿着传送方向传送片材状介质;传送路径,其由第一引导部件和第二引导部件形成,所述第一引导部件沿着所述传送方向引导所述介质,所述第二引导部件沿着所述传送方向引导所述介质,所述第一引导部件和所述第二引导部件中的至少一个包括位于处理位置的下游侧和第二传送部件的上游侧的拓宽部分;按压部件,其将所述介质按压到所述第一引导部件上;处理单元,其对在传送路径中传送的所述介质进行处理;以及第二传送部件,其沿着所述传送方向传送由所述第一引导部件和所述第二引导部件引导的所述介质。
申请公布号 CN104512743A 申请公布日期 2015.04.15
申请号 CN201410253594.7 申请日期 2014.06.09
申请人 富士施乐株式会社 发明人 莳田圣吾;古谷孝男;岩城能成
分类号 B65H5/06(2006.01)I 主分类号 B65H5/06(2006.01)I
代理机构 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人 顾红霞;龙涛峰
主权项 一种传送装置,包括:第一传送部件,其沿着传送方向传送片材状介质;传送路径,其由第一引导部件和第二引导部件形成,所述第一引导部件设置在所述第一传送部件的沿着所述传送方向的下游侧且设置在所传送的介质的第一表面侧以沿着所述传送方向引导所述介质,所述第二引导部件设置在所传送的介质的位于所述第一表面的背侧的第二表面侧以沿着所述传送方向引导所述介质,所述第一引导部件和所述第二引导部件中的至少一个包括位于处理位置的下游侧和第二传送部件的上游侧的拓宽部分;按压部件,其将所述介质按压到所述第一引导部件上;处理单元,其在所述按压部件的沿着所述传送方向的下游侧对所述传送路径中传送的所述介质进行处理;以及第二传送部件,其设置在所述处理单元对所述介质进行处理的所述处理位置的下游侧,并且沿着所述传送方向传送由所述第一引导部件和所述第二引导部件引导的所述介质。
地址 日本东京