发明名称 末效降膜蒸发器及水冷器的配置结构
摘要 本发明涉及一种末效降膜蒸发器及水冷器,尤其涉及一种属于氧化铝技术领域种分母液蒸发工序中末效降膜蒸发器及水冷器的配置结构。末效降膜蒸发器及水冷器的配置结构,包括加热室和分离室,加热室的底部与汽液混合室连接,分离室的顶部与水冷器连接,汽液混合室的侧壁通过连接管与分离室的中部连接。本发明的优点效果:可以有效解决末效降膜蒸发器二次蒸汽带碱的问题。荷载较重的加热室和分离室分别位于两个支撑框架内,降低了单个支撑框架的荷载,可以减少建筑结构费用。
申请公布号 CN103007560B 申请公布日期 2015.04.15
申请号 CN201110287214.8 申请日期 2011.09.26
申请人 沈阳铝镁设计研究院有限公司 发明人 廖玮;陈国华;宋治林;廖新勤;唐时健;王剑;李志国
分类号 B01D1/26(2006.01)I;B01D1/22(2006.01)I;B01D1/30(2006.01)I;C01F7/02(2006.01)I 主分类号 B01D1/26(2006.01)I
代理机构 沈阳圣群专利事务所(普通合伙) 21221 代理人 王钢
主权项 末效降膜蒸发器及水冷器的配置装置,包括加热室和分离室,其特征在于加热室的底部与汽液混合室连接,分离室的顶部与水冷器连接,汽液混合室的侧壁通过连接管与分离室的中部连接;所述的分离室为中部为直筒,上下两端为锥体,分离室直筒段上部设有除沫器;所述的分离室二次蒸汽出口处设有伞帽和挡水壁;所述的分离室上部伸到水冷器内,水冷器的下部设有循环回水出口。
地址 110001 辽宁省沈阳市和平区和平北大街184号