发明名称 |
一种阵列基板、显示面板及阵列基板的制造方法 |
摘要 |
本发明公开了一种阵列基板、显示面板及阵列基板的制造方法,所述阵列基板包括多个像素单元,每个像素单元包括薄膜晶体管、透明导电金属层和像素电极,所述薄膜晶体管包括栅极、有源层、源极和漏极,其中,所述有源层位于栅极的上方或者下方;所述透明导电金属层与有源层层叠接触;所述源极和漏极形成有源层的沟道,且所述漏极与像素电极连接。由于透明导电金属与有源层层叠接触,在阵列基板的制造过程中,在沉积透明导电薄膜和有源层薄膜之后,只需通过一次半色调掩模构图工艺即可形成像素电极图形和有源层图形,大大简化了生产工艺,同时也减少了该次掩模构图工艺可能带来的产品缺陷,大大提高了产能。 |
申请公布号 |
CN102881688B |
申请公布日期 |
2015.04.15 |
申请号 |
CN201210349520.4 |
申请日期 |
2012.09.19 |
申请人 |
北京京东方光电科技有限公司 |
发明人 |
邓检 |
分类号 |
H01L27/02(2006.01)I;H01L29/786(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I;G02F1/1368(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/02(2006.01)I |
代理机构 |
北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 |
代理人 |
黄志华 |
主权项 |
一种阵列基板,其特征在于,包括多个像素单元,每个像素单元包括薄膜晶体管、透明导电薄膜层和像素电极,所述薄膜晶体管包括栅极、有源层、源极和漏极,其中,所述有源层位于栅极的上方或者下方;所述透明导电薄膜层与有源层层叠接触;所述源极和漏极形成有源层的沟道,且所述漏极与像素电极连接;所述阵列基板还包括:透明基板、与栅极连接的栅极扫描线、栅极绝缘层、与源极连接的数据扫描线,其中,所述栅极和栅极扫描线,形成于透明基板之上;所述栅极绝缘层,形成于栅极和栅极扫描线之上并覆盖基板;所述像素电极和透明导电薄膜层,形成于栅极绝缘层之上,且所述透明导电薄膜层位于栅极的上方;所述有源层,形成于透明导电薄膜层之上并与透明导电薄膜层层叠接触;所述源极和漏极形成于有源层之上。 |
地址 |
100176 北京市大兴区经济技术开发区西环中路8号 |