发明名称 用于晶圆的刷洗装置和刷洗方法
摘要 本发明公开了一种用于晶圆的刷洗装置和刷洗方法,所述用于晶圆的刷洗装置包括:机架;第一和第二毛刷,所述第一和第二毛刷相对地且间隔开地安装在所述机架上以分别用于刷洗晶圆的两侧表面;和第一和第二清洗液供给单元,所述第一和第二清洗液供给单元相对地且间隔开地安装在所述机架上以分别用于向所述晶圆的两侧表面供给清洗液,其中所述第一和第二清洗液供给单元中的每一个供给的清洗液的量沿所述晶圆的径向由内向外增加。根据本发明实施例的用于晶圆的刷洗装置可以提高晶圆的刷洗效率,减少晶圆的刷洗时间,减少刷洗晶圆的清洗液用量。
申请公布号 CN103071650B 申请公布日期 2015.04.15
申请号 CN201310023763.3 申请日期 2013.01.22
申请人 清华大学 发明人 路新春;梅赫赓;裴召辉;何永勇
分类号 B08B7/04(2006.01)I;B08B1/00(2006.01)I;B08B3/02(2006.01)I;B08B3/08(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I 主分类号 B08B7/04(2006.01)I
代理机构 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人 宋合成;黄德海
主权项 一种用于晶圆的刷洗装置,其特征在于,包括:机架;第一和第二毛刷,所述第一和第二毛刷相对地且间隔开地安装在所述机架上以分别用于刷洗晶圆的两侧表面;和第一和第二清洗液供给单元,所述第一和第二清洗液供给单元相对地且间隔开地安装在所述机架上以分别用于向所述晶圆的两侧表面供给清洗液,其中所述第一和第二清洗液供给单元中的每一个供给的清洗液的量沿所述晶圆的径向由内向外增加,所述第一和第二清洗液供给单元中的每一个向所述晶圆上的半径为r的圆供给的清洗液的量F(r)满足F(r)·η(r)=c,其中c为常数,η(r)为所述晶圆上的半径为r的圆的刷洗效率,所述η(r)满足:<img file="FDA0000587460050000011.GIF" wi="718" he="333" />b为所述第一和第二毛刷与所述晶圆的接触区域的宽度。
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