SHOWERHEAD ELECTRODES AND SHOWERHEAD ELECTRODE ASSEMBLIES HAVING LOW-PARTICLE PERFORMANCE FOR SEMICONDUCTOR MATERIAL PROCESSING APPARATUSES

摘要

반도체 재료 프로세싱 장치용 샤워헤드 전극이 개시된다. 샤워헤드 전극의 일 실시형태는 서로 접합된 상부 전극 및 저부 전극을 포함한다. 상부 전극은 하나 이상의 플레넘을 포함한다. 저부 전극은 플레넘과 유체 소통하는 복수의 가스 홀 및 플라즈마 노출된 저부면을 포함한다. 상판에 플렉서블하게 매달린 샤워헤드 전극을 포함하는 샤워헤드 전극 어셈블리가 또한 개시된다. 샤워헤드 전극 어셈블리는 샤워헤드 전극으로부터 공간적으로 분리된 온도 제어 엘리먼트와 유체 소통되어 샤워헤드 전극 온도를 제어할 수 있다. 샤워헤드 전극 어셈블리는 포함하는 플라즈마 프로세싱 챔버 내에서 기판을 프로세싱하는 방법이 또한 개시된다.