发明名称 ボイドのないサブミクロンの機構を充填するための、抑制剤を含む金属メッキ用の組成物
摘要 <p>A composition comprising a source of metal ions and at least one suppressing agent obtainable by reacting a) an amine compound comprising active amino functional groups with b) a mixture of ethylene oxide and at least one compound selected from C3 and C4 alkylene oxides, said suppressing agent having a molecular weight Mw of 6000 g/mol or more.</p>
申请公布号 JP5702360(B2) 申请公布日期 2015.04.15
申请号 JP20120503962 申请日期 2010.03.29
申请人 发明人
分类号 C25D3/38;C25D7/12 主分类号 C25D3/38
代理机构 代理人
主权项
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